LSC-4000型大尺寸CMP后清洗机
品牌：NANO-MASTER
型号： LSC-4000
产地：美国
关键字：CMP，大型清洗机，晶圆清洗机
型号： LSC-4000
产地：美国
关键字：CMP，大型清洗机，晶圆清洗机
n产品简介：
大尺寸CMP后清洗机(LSC-4000)是NANO-MASTER公司开发的一个独立式的兆声清洗系统,可支持高达21" OD的基片。相较SWC-4000可通过触摸屏实现更好的控制,且允许操作人员、工程师、维护人员等访问权限。LSC具有与SWC相同的兆声清洗技术和化学液清洗。
LabVIEW控制和更大工艺腔体的组合,可支持更多的选配项,如臭氧化DIW、高压DIW、带保护膜的分划板清洗和白骨化清洗。同样支持显影和刻蚀应用。单晶片和Cassette机械手自动上下片可选择。
n技术特色：
- 支持对角线21" 、 15" x 15"
- 基片和450mm圆片
- 无损兆声清洗
- 不同速度的PVA刷子
- 化学液分布,带回吸阀
- 旋转甩干,带热氨
- 双排放口,酸和溶剂独立排放
- 全自动计算机控制,菜单驱动
- 触摸屏用户界面
- 手动上下片,可升级为自动
- 三级安全联锁和警报小
- 占地面积：长32" x宽28"
n主要技术参数：
|
Wafer尺寸 |
450mm片晶圆，可用于最大15”X 15”掩膜版清洗 |
|
清洗模块 |
去离子水冲洗、PVA刷子刷洗、化学试剂清洗、兆声清洗 |
|
去离子水 |
1.5L/min |
|
清洗时间 |
5分钟 |
|
上下片 |
手动 |
|
兆声清洗 |
频率：1MHz（可选3MHz）功率：40W |
|
干燥方式 |
旋转甩干、氮气吹扫、红外灯烘干 |
|
功率 |
208V，20A& 400V，20A， 50/60HZ |
|
旋转台 |
转速：0-4000RPM |
|
氮气 |
40-50 PSI |
|
废气 |
2.2cfm，1”FNPT, 400mm Hg |
|
化学试剂分配速率 |
@15 PSI of N2, 83 c cm (based on D.I. H2O) |
|
@20 PSI of N2, 1 33 ccm (based on D.I. H 2 O) |
|
|
控制器 |
LabVIEW控制系统，LCD触控屏控制 |
创建时间：2021-02-06 10:00
