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LSC-4000型大尺寸CMP后清洗机

LSC改5
品牌:NANO-MASTER

型号: LSC-4000

产地:美国

关键字:CMP,大型清洗机,晶圆清洗机

n产品简介:


  大尺寸CMP后清洗机(LSC-4000)NANO-MASTER公司开发的一个独立式的兆声清洗系统,可支持高达21" OD的基片。相较SWC-4000可通过触摸屏实现更好的控制,且允许操作人员、工程师、维护人员等访问权限。LSC具有与SWC相同的兆声清洗技术和化学液清洗。

 

         LabVIEW控制和更大工艺腔体的组合,可支持更多的选配项,如臭氧化DIW、高压DIW、带保护膜的分划板清洗和白骨化清洗。同样支持显影和刻蚀应用。单晶片和Cassette机械手自动上下片可选择。

 

n技术特色:

  • 支持对角线21" 、 15" x 15"
  • 基片和450mm圆片
  • 无损兆声清洗
  • 不同速度的PVA刷子
  • 化学液分布,带回吸阀
  • 旋转甩干,带热氨
  • 双排放口,酸和溶剂独立排放
  • 全自动计算机控制,菜单驱动
  • 触摸屏用户界面
  • 手动上下片,可升级为自动
  • 三级安全联锁和警报小
  • 占地面积:长32" x宽28"

 

n主要技术参数:

Wafer尺寸

450mm片晶圆,可用于最大15”X 15”掩膜版清洗

清洗模块

去离子水冲洗、PVA刷子刷洗、化学试剂清洗、兆声清洗

去离子水

1.5L/min

清洗时间

5分钟

上下片

手动

兆声清洗

频率:1MHz(可选3MHz)功率:40W

干燥方式

旋转甩干、氮气吹扫、红外灯烘干

功率

208V,20A& 400V,20A, 50/60HZ

旋转台

转速:0-4000RPM

氮气

40-50 PSI

废气

2.2cfm,1”FNPT, 400mm Hg

化学试剂分配速率

@15 PSI of N2, 83 c cm (based on D.I. H2O)

@20 PSI of N2, 1 33 ccm (based on D.I. H 2 O)

控制器

LabVIEW控制系统,LCD触控屏控制

创建时间:2021-02-06 10:00

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