纳米压印母版制作

    NILT 提供具有多种结构、多种形状因数和材料的母版和副母版。我们的重点是衍射光学元件、超透镜和增强/混合现实的大师。我们还具有为其他应用程序创建母版的能力。
    母版采用电子束光刻 (EBL)、深紫外光刻 (DUV) 和直接激光写入，结合先进的干法蚀刻和沉积工艺制成。
    所有母版均按客户规格制作。发货前，所有规格均经过计量确认，如扫描电子显微镜、原子力显微镜和光学显微镜，并报告给客户。