AutoSCIL全自动纳米压印光刻机
型号:AutoSCIL
产地:荷兰
关键字:纳米压印,纳米压印系统,纳米压印光刻机
n 荷兰SCIL公司简介
荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,并与SUSS,Fraunhofer,AMO,AMOLF合作,共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术,真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产,已经被国际上很多知名fab厂采用。
“SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 µm 的图案。
荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶,可直接作为功能层使用,可直接省去2个工艺步骤,大大降低了生产成本。
SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案,并可以帮助客户优化设备、耗材和流程,以实现大批量生产。
n SCIL 技术特色
- 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷(专利的模板复制技术)。
- 独特的 SCIL 压印工艺可确保<10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。
- 套刻对齐精度:< 1 µm
- -gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。
- Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和(UV)稳定性使其适合作为功能层。
- 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。
- 总体而言,SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。
n AutoSCIL型全自动纳米压印系统简介
AutoSCIL型全自动纳米压印系统包括所有基本工艺步骤:晶片处理、预对准、旋涂、SCIL 压印、烘烤和冷却。
n 技术参数
产能 |
30 - 60 wafers/小时(取决于wafer尺寸,材料,pattern尺寸等因素) |
晶圆尺寸 |
2” up to 8” (or 200 mm) |
Wafer thickness |
0.3 - 2.5 mm |
晶圆搬运 |
Cassette-to-cassette,带robot |
光刻胶类型 |
Thermal sol-gel UV sol-gel UV organic |
光刻胶涂层 |
集成了旋涂仪 |
压印技术 |
低力软模基底保形纳米压印技术 |
后处理 |
烘烤与冷却 |
尺寸(WxLxH) |
1.9 x 1.6 x 2.2 m |
套刻精度 |
< 1μm |
n 应用
纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括:
- 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学
- MicroLED
- MEMS和传感器