FabSCIL3 纳米压印光刻机

n 荷兰SCIL公司简介

  荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，并与SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术，真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产，已经被国际上很多知名fab厂采用。

     “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 µm 的图案。

  荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。

      荷兰SCIL公司目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。

n SCIL 技术特色

• 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（专利的模板复制技术）。
• 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。
• 套刻对齐精度：< 1 µm
• Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。
• Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。
• 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。
• 总体而言，SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。

n FabSCILCluster3全自动产线纳米压印系统简介

FabSCIL Cluster3 全自动产线纳米压印系统集成3套压印模组，可以压印 200 和 300 毫米晶圆，并具有自动模具装载和定位功能。系统集成晶圆处理、对准、旋涂、烘烤、冷却和其他工艺制程模组。

n 应用

纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括：

•  增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学
•    MicroLED
•    MEMS和传感器