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FabSCIL3 纳米压印光刻机

cluster2
品牌:SCIL

型号:FabSCIL3

产地:荷兰

关键字:纳米压印,纳米压印系统,纳米压印光刻机

n 荷兰SCIL公司

 

  荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,并与SUSSFraunhoferAMOAMOLF合作,共同开发了专利的“SCIL基底保形压印技术,真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产,已经被国际上很多知名fab厂采用。

     “SCIL保形压印光刻是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 套刻对齐精度小于 1 µm 的图案。

  荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶,可直接作为功能层使用,可直接省去2个工艺步骤,大大降低了生产成本。

      荷兰SCIL公司目前可提供2” 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案,并可以帮助客户优化设备、耗材和流程,以实现大批量生产。

 

n SCIL 技术特色

 

  • 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷专利的模板复制技术
  • 独特的 SCIL 压印工艺可确保10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。
  • 套刻对齐精度:< 1 µm
  • Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极蚀刻率。
  • Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和(UV)稳定性使其适合作为功能层。
  • 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。
  • 总体而言,SCIL将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。

 

n FabSCILCluster3全自动产线纳米压印系统简介

 

FabSCIL Cluster3 全自动产线纳米压印系统集成3套压印模组,可以压印 200 300 毫米晶圆,并具有自动模具装载和定位功能。系统集成晶圆处理、对准、旋涂、烘烤、冷却和其他工艺制程模组

 

n 应用

 

纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括:

 

  •  增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学
  •    MicroLED
  •    MEMS和传感器

创建时间:2022-01-17 11:45

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