大尺寸湿法处理系统
品牌:Osiris
型号:CHEMIXX 760
产地:德国
关键字:CMP后清洗、湿法刻蚀、显影机,湿法清洗机
型号:CHEMIXX 760
产地:德国
关键字:CMP后清洗、湿法刻蚀、显影机,湿法清洗机
n产品简介
CHEMIXX 760系统是一款大尺寸湿法系统,支持最大样品达535X535mm(21寸方片),更大的样品尺寸可定制,一台系统可实现清洗、蚀刻 、显影 ,干燥整个工艺过程。
n产品特色
÷ 基板尺寸高达 535 x 535 mm/21 x 21 inch
÷ 手动装载半自动系统
÷ 两个用于化学液输送和机械清洗的电动输送臂
÷ 提供多种喷嘴,spray,puddle,喷雾,5孔碰头等
÷ 低接触或定制夹具
÷ 化学液具有加热功能,最高 60°C (85°C)
÷ 集成三种不同化学液供液系统,外部液体罐可选
÷ 手动灌装或通过批量灌装系统
÷ 工艺室外的手动去离子水枪
÷ 去离子水室冲洗
÷ 系统前端的紧急停止按钮
÷ 传感器控制的 3 路排水系统可通过配方进行编程。
÷ 带有三个光区的信号灯,用于系统状态的可视化
÷ 支持化学液清洗,兆声清洗,PVA刷洗,吹干等工艺
÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的一般设计
n技术数据
÷ 衬底尺寸: 最大可达 535 x 535 mm / 21 x 21 inch
÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步长 1 rpm
÷ 电机加速: 最大 2.000 rpm/s,步长 1 rpm/s
÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒,步长为 0.1 秒
÷ 工艺腔室材料: PP (可选 PVDF)
创建时间:2021-09-30 19:45
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