Alpha300 RA拉曼与原子力联用系统
型号:Alpha300 RA
产地:德国
关键字:拉曼光谱仪,共聚焦,原子力显微镜
n产品简介:
Alpha300 RA使拉曼显微镜和原子力显微镜两种互补的成像技术在一台仪器上实现,各自的性能完全不受联用的影响,而且共用一个操作软件,其操作和分析变得简单可靠。在拉曼和原子力两种成像模式之间进行切换只需转动物镜转盘,成像软件即可原位完成两种技术的图像比对、叠加和分析。
n联用技术简介:
Alpha300 RA是市面上第一个高度集成的拉曼—原子力联用系统,并继续为拉曼-原子力联用显微镜的组合仪器设定标准。alpha300 RA集成了显微共焦拉曼系统alpha300 R的所有特点,在进行化学组分分析的同时,也加入了原子力显微镜(alpha300 A)用于高分辨率的纳米级形貌分析。因此,Raman-AFM联用成像有助于研究者对样品进行全面了解。此外alpha300 RA可进一步升级做TERS(高分辨拉曼)测量。
n产品特色:
- 拉曼—原子力同时测量的理想选择之一
- 真正原位:完全不需要在测量过程中移动样品
- 只需转动物镜即可实现两种技术的切换
- 在一台显微镜上涵盖Alpha300 R(拉曼)和Alpha300 A(原子力)的所有功能
- 纳米级表面分析(原子力)与原位化学组分成像(拉曼)完美结合
n应用实例:
对由PS(聚苯乙烯)、SRB(苯乙烯-丁二烯-橡胶)和EHA(丙烯酸乙酯-己醛)的1:1:1混合物组成的多组分聚合物混合物的同一区域进行拉曼-原子力显微镜组合测量。
拉曼图 (左): 绿色 = PS, 红色= SRB, 蓝色 = EHA.
硅应力的拉曼-原子力显微镜测试。左:10μm×10μm原子力显微镜拓扑图像和深度剖面(底部)。右:10μm×10μm原子力显微镜地形图图像和深度剖面图(底部)。相应的拉曼图像揭示了硅的应力区域。
共焦拉曼图像的1阶硅线(左)和沿蓝色标记的截面(右)的强度曲线。
n主要性能指标
拉曼操作模式
- 拉曼光谱成像:每个样品点都能获取完整的拉曼光谱
- 2D和3D成像模式:平面(x-y方向)和深度扫描(z方向)
- 快速和慢速时间序列
- 单点拉曼光谱采集
- 光纤耦合的UHTS 系列光谱仪,专为弱光应用的拉曼光谱设计
- 共焦荧光显微镜
- 明场显微镜功能
原子力显微镜操作模式
- 接触模式
- AC模式(轻敲模式)
- 数字脉冲力模式 (DPFM)
- 抬高模式
- 磁力显微镜(MFM)
- 静电力显微镜 (EFM)
- 相位成像
- 力曲线分析
- 微纳操控及微纳印刷
- 横向力模式(LFM)
- 化学力模式(CFM)
- 电流传感模式
显微镜基本指标
- 研究级光学显微镜,6孔物镜转盘
- 视频系统:CCD相机
- 高灵敏度b/w相机,可在传输过程中观察样品和AFM针尖
- LED明场科勒照明
- 电动XYZ样品台,25mm×25mm×20mm平移范围
- 主动隔震平台
拉曼可选/升级选项
- UV-VIS-NIR多种激光可选
-多种光谱仪可选
- 超快拉曼成像(每秒1300个光谱) 可选
- 自动共聚焦拉曼成像 (25×25 mm²;5×50mm²)可选
- Truesurface功能
- 自动聚焦功能
- 自动多区域多点测量
- 可升级落射荧光照明
WITec超高通光量UHTS光谱仪
- 各种波长优化的透射式光谱仪可选 (UV, VIS 或 NIR),专为弱光拉曼光谱设计
- 光纤耦合,高达70%传输效率
- 优异的成像质量,光谱峰形对称无畸变
-
三维表面形貌仪
-
微纳米力学测试系统
-
摩擦磨损试验机
-
Mountains分析软件
-
平面磨床/金属研磨机
-
SIC外径研磨机/晶圆减薄机
-
CMP化学机械抛光/后清洗机
-
晶圆厚度/三维形貌/膜厚测量系统
-
表面颗粒度检测系统
-
晶圆AOI系统
-
晶圆电阻率/方块电阻测量仪
-
纳米压印系统
-
光栅尺寸无损检测仪
-
磁控溅射/热蒸发/电子束镀膜系统
-
LPCVD/PECVD
-
干法刻蚀
-
等离子灰化去胶系统
-
晶圆匀胶机/喷胶机
-
晶圆烤胶系统(热板)
-
湿法(显影刻蚀清洗)系统
-
临时键合机/解键合机
-
晶圆贴片机/贴膜/解胶机
-
原子力显微镜
-
共聚焦拉曼显微镜
-
棱镜耦合仪
-
快速退火炉/真空高温炉
-
光刻胶边缘分析
-
划片机
-
接触角测量仪