首页    湿法(显影刻蚀清洗)系统    标准湿法处理系统

标准湿法处理系统

9deb4fbc-5e23-4c54-8ade-3de02f05b10b
品牌:Osiris

型号:CHEMIXX  30pm

产地:德国

关键字:湿法台,清洗机,刻蚀机,显影机

n产品简介

 

CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统,主要用于晶圆或者方片的清洗,刻蚀,显影等应用,其中清洗部分具有化学清洗,兆声清洗,PVA刷洗,高压DI水冲洗,背部清洗等多种功能。

 

n产品特色

 

÷ 圆形晶圆最大可达 Ø 300mm

÷ 方形衬底最大可达 9 x 9 inch

÷ 最多两个电动输送臂,每个最多 6 个管路

÷ 液体加热模块高达 60°C

÷ 用于去离子水的背面冲洗

÷ 集成三种不同化学品液供应系统

÷ 工艺室外的手动去离子水枪

÷  工艺室自动去离子水冲洗可选

÷ 带有流孔的工艺室档板

 

n技术数据

 

÷ 衬底尺寸: 最大可达 Ø 300mm (Ø12 inch) 230 x 230 mm (9 x 9 inch)

÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步进1 rpm

÷ 步进时间: 1 999.9 秒,步长 0.1 s

÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成

÷ 处理室材料:  PP (可选 PVDF)

 

                                            

 

网站关键词:临时键合机  湿法系统  湿法台  湿法台  湿法台 金属减薄机  晶圆贴片机  晶圆贴膜机  金属研磨机   微米划痕仪  CMP抛光机    纳米划痕仪  晶圆厚度测量系统  晶圆厚度测量系统  晶圆厚度测量系统   晶圆厚度测量系统  拉曼显微镜  三维表面形貌仪  扫描超声显微镜  化学机械抛光机  CMP后清洗机  CMP后清洗机   CMP后清洗机  棱镜耦合仪  棱镜耦合仪  超声显微镜

创建时间:2021-09-30 20:00

产品中心