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12寸科研级CMP抛光机

12寸科研级CMP抛光机-1
品牌:CTS

 型号:AP-300

 产地:韩国

 关键字:化学机械抛光机、抛光机

n产品简介

 

      韩国CTS公司的AIP-300CMP抛光机是一款12寸工业级CMP系统,可兼容8寸,12寸样品,可用于工厂及批量生产。

 

n产品主要特色

- CMP抛光头:采用气囊加载模式,5区压力独立控制,可得到良好的工业级抛光效果;

- 自动上下片,自动抛光,干进干出。

- 抛光垫修整器:摆臂式设计,由13个传感器分别控制13个区域的下压力,可保证抛光垫高水平修整;

- 抛光垫修整器:具有在线修整与离线修整两种模式。

- 工艺数据可实时监测。

- 可存储多个Recipe

- 带两个手臂

-带全自动后清洗模块

 

n核心技术参数

 

抛光头

兼容8寸,12

抛光头数量

2/4

抛光头摆动范围

±15mm

抛光头转速

0 ~ 200 rpm

抛光头加压方式

气囊柔性加压背压功能(5区加压)

抛光头压力范围

0.14 ~ 14 psi

抛光盘尺寸

30英寸

抛光盘数量

1/2

抛光盘转速

0 ~ 200 rpm

蠕动泵

2

抛光液流速

0 ~ 500 cc/min

抛光垫修整器分区

13

抛光垫修整器在线扫描速度

10sweeps/min

抛光垫修整器下压力

3-20lbs

抛光垫修整器转速

0-150rpm

CMP后片内非均匀性WIWNU

1sigma,去边5mm

< 5%

CMP后片间非均匀性WTWNU

1sigma,去边5mm

< 3%

全自动机械臂

2

后清洗系统

包含高压DIW冲洗,双面PVA刷洗,化学液清洗,高速甩干等功能。

冷却系统

包含

EFEM

包含

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n应用案例

 

CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜,STI

创建时间:2021-02-05 21:35

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