4，6，8寸工业级CMP化学机械抛机

n产品简介

韩国CTS公司的SAERO2K型CMP抛光机是一款全自动工业级CMP系统，4寸，6寸，8寸可选，用于半导体工厂及批量量产。

n产品主要特色

- CMP抛光头：采用气囊加载模式，3区压力分区控制，可得到良好的工业级抛光效果。

- 自动上下片，自动抛光，干进干出。

- 抛光垫修整器：摆臂式设计，抛光垫分10区修整控制，可调整修整器下压力及每个区域的修整时间，可保证抛光垫高水平修整。

- 抛光垫修整器：具有在线修整与离线修整两种模式。

- 工艺数据可实时监测。

- 可存储多个Recipe。

- 带全自动手臂及自动双面清洗设备模块。

n核心技术参数

n应用案例

CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜，STI等

网站关键词：临时键合机  湿法系统  湿法台  湿法台  金属减薄机  晶圆贴片机  晶圆贴膜机  金属研磨机   微米划痕仪  CMP抛光机    纳米划痕仪  晶圆厚度测量系统  晶圆厚度测量系统  晶圆厚度测量系统   晶圆厚度测量系统  拉曼显微镜  三维表面形貌仪  扫描超声显微镜  化学机械抛光机  CMP后清洗机  CMP后清洗机   CMP后清洗机  棱镜耦合仪  棱镜耦合仪  超声显微镜  CMP抛光机  化学机械抛光机  晶圆扩膜机  晶圆扩膜机  晶圆扩膜机  晶圆扩膜机  临时键合机  晶圆贴片机  晶圆贴片机  晶圆贴片机